浙江大学13件成果拟关联转让，现将相关信息予以公示。根据《浙江大学科技成果转化审批细则》（浙大发〔2024〕4号）相关规定，成果完成人申请将科技成果转让给关联方实施转化的，需进行合规性审查，如《关于“杭州玉之泉控股有限公司”科技成果转化活动合规性审查情况的公示》有异议，本次关联转让公示同步终止。
[1] 成果名称：一种高精度光刻胶组合物及其直写系统
完成人：邱毅伟; 曹春; 关玲玲; 沈小明; 夏贤梦; 匡翠方; 刘旭
权利人：之江实验室;浙江大学
成果类型：发明专利
成果号：ZL202210143737.3
成果简介：本发明属于光刻胶及激光直写技术领域，并公开了一种适用于飞秒激光直写的高精度光刻胶组合物，所述光刻胶组合物由单体和光引发剂。技术特征在于，所述光刻胶组合物具有双色光敏性，可以被特定波长的飞秒激光引发聚合，同时又可以被另一束连续激光抑制聚合，抑制光束减小了飞秒激光的直写区域，从而提高了飞秒激光直写精度；进一步的，所述光刻胶组合物折射率和光学系统的物镜折射率差异小于0.01，减小了激光在光刻胶中的相差或球差，从而进一步提高飞秒激光直写精度，本发明所提供的光刻胶组合物通过特定结构的单体，不仅具有较高的直写精度，还有较低的直写阈值和体积收缩率。
[2] 成果名称：一种并行穿插高速激光直写光刻的方法与装置
完成人：匡翠方; 王洪庆; 王子昂; 杨臻垚; 汤孟博; 詹兰馨; 张晓依; 温积森; 刘旭
权利人：之江实验室;浙江大学
成果类型：发明专利
成果号：ZL202111248661.2
成果简介：本发明公开了一种并行穿插高速激光直写光刻的方法与装置。本发明方法使用并行穿插算法，包括步骤：1)基于刻写光空间光调制器产生刻写用多光束实心光斑；2)基于多通道声光调制器输出刻写波形，首先只输出第Nbeams束光的刻写波形；3)经过n次扫描后开始输出第Nveams‑1束光的刻写波形；4)再经过n次扫描后开始输出第Nbeams‑2束光的刻写波形；5)重复步骤3)‑4)直到所有光束波形都开始输出。本发明装置基于并行穿插扫描策略，有效解决了现有并行转镜激光直写光刻系统由于扫描策略过于简单而导致刻写效率低下的问题。
[3] 成果名称：一种基于转镜的激光直写系统的刻写方法及装置
完成人：詹兰馨; 匡翠方; 张良; 杨臻垚; 孙秋媛; 张晓依; 汤孟博; 刘旭
权利人：之江实验室;浙江大学
成果类型：发明专利
成果号：ZL202210324231.2
成果简介：本发明公开了一种基于转镜的激光直写系统的刻写方法及装置，该方法包括：构建光功率和声光调制器的输入电压之间的拟合关系；获取转镜扫描有效区域内的光功率分布情况；根据预定刻写光功率和所述光功率分布情况，确定单次刻写视场范围；根据所述单次刻写视场范围，对待刻写文件进行分割，得到至少一个子文件；对所述子文件进行灰度补偿矫正，得到刻写数据文件；根据刻写方向的偏转角度，对每个刻写数据文件的行初始位置坐标进行坐标变换；根据变换后的行初始位置坐标和所述拟合关系，利用基于转镜的激光直写系统进行刻写。本方法可以使刻写的效果更加均匀、刻写的准确率更高。
[4] 成果名称：一种基于光场调控的双路并行超分辨激光直写装置
完成人：匡翠方; 朱大钊; 徐良; 丁晨良; 刘旭; 李海峰
权利人：之江实验室;浙江大学
成果类型：发明专利
成果号：ZL202110388124.1
成果简介：本发明公开了一种基于光场调控的双路并行超分辨激光打印装置，属于超分辨激光微纳加工领域。直写激光器发出的激光依次经过直写路准直器、直写路防漂移系统、直写路能量调控模块、直写路波前调控模块进入合束模块；抑制路激光器发出的激光依次经过抑制路准直器、抑制路防漂移系统、抑制路能量调控模块、抑制路波前调控模块进入合束模块；直写光在直写路波前调控模块中被调制，抑制光在抑制路波前调控模块中被调制，两路光合束后，形成两对直写‑抑制光斑组合。本发明通过分区复用SLM并利用其偏振选择特性，在一束直写光束和一束抑制光束的基础上实现了双聚焦光斑，同时实现每个光斑能量的独立调控，将激光直写打印系统的速度提升了一倍。
[5] 成果名称：一种基于振镜的超分辨激光直写系统的刻写方法及装置
完成人：汤孟博; 张晓依; 樊吴申; 匡翠方; 杨臻垚; 詹兰馨; 刘旭
权利人：之江实验室;浙江大学
成果类型：发明专利
成果号：ZL202210324232.7
成果简介：本发明公开了一种基于振镜的超分辨激光直写系统的刻写方法及装置，该方法包括：获取待刻写数据和基于振镜的超分辨激光直写系统的单次扫描范围；根据所述单次扫描范围，将所述待刻写数据分割为若干个子数据；根据全局坐标系，对所述子数据进行旋转，得到旋转数据；获取振镜的X极性和Y极性；根据所述X极性和Y极性，对所述旋转数据进行翻转，得到翻转数据；对所述翻转数据之间的拼接重合区域进行拟合，得到刻写数据；根据所述刻写数据，利用基于振镜的超分辨激光直写系统进行刻写。该方法解决振镜与全局坐标系之间存在角度偏差、振镜X/Y轴向与全局坐标轴向不一致和拼接刻写均匀性不一致的问题。
[6] 成果名称：一种激光束漂移实时探测与快速校正装置及方法
完成人：匡翠方; 丁晨良; 魏震; 汤孟博; 朱大钊; 刘旭; 徐良
权利人：之江实验室;浙江大学
成果类型：发明专利
成果号：ZL202011296003.6
成果简介：本发明公开了一种激光束漂移实时探测与快速校正装置及方法，该装置包括可调小孔、旋转反射镜、直角棱镜反射镜、纳米位移台、压电调节镜架、分束镜、透镜、位置探测器和控制器等部件；通过纳米位移台与直角棱镜反射镜的组合，实现光束位置漂移的独立调控，通过压电调节镜架实现光束指向角度的独立调控。本发明通过光束指向位置漂移与角度漂移的独立调控，避免了常规光束指向系统中的解耦操作，实现小型化、高精度、快速度的光束稳定控制。利用本发明装置调整得到的稳定光束，可以广泛用于超分辨显微成像系统和高精度激光直写光刻系统。
[7] 成果名称：一种灵敏度可调长工作距离差分共焦系统
完成人：匡翠方; 魏震; 张凌民; 徐良; 马程鹏; 丁晨良; 刘旭; 孙秋媛
权利人：之江实验室;浙江大学
成果类型：发明专利
成果号：ZL202210815098.0
成果简介：本发明公开了一种灵敏度可调长工作距离差分共焦系统，包括激光器、准直镜、半波片、偏振分束器、λ/4波片、扩束镜/缩束镜、物镜、共焦透镜、分束器、小孔、光强探测器。通过调节激光出射直径改变系统灵敏度和探测范围，解决了差分共焦灵敏度高但探测范围小的问题。从而可先通过低分辨大探测范围模式进行初步测量或对焦，再通过高分辨小探测范围模式进行测量或对焦，最后实现大探测范围和高灵敏度的测量或对焦。另外，当物镜离共焦系统较远时，长焦距差分共焦系统的焦点和物镜焦点可以构成4f关系的问题，对于显微镜和激光直写设备有重要应用价值。本发明可广泛应用于激光直写系统、显微镜、测量系统。
[8] 成果名称：一种双光束实时中心对准和稳定的装置和方法
完成人：匡翠方; 丁晨良; 朱大钊; 魏震; 杨臻垚; 刘旭; 徐良
权利人：之江实验室;浙江大学
成果类型：发明专利
成果号：ZL202110061579.2
成果简介：本发明公开了一种双光束实时中心对准和稳定的装置和方法，该装置包括可调小孔、旋转反射镜、直角棱镜反射镜、纳米位移台、角度压电调节镜架、二色镜、分束镜、透镜、位置探测器和控制器等部件。本发明可以对两束不同波长的激光束进行合束，确保光斑中心严格对准，并且对出射后的合束光进行光束稳定，在长时间工作中保持两束光的中心一直稳定在重合状态，实现小型化、高精度、快速度的合束光稳定控制。利用本发明装置调整得到稳定的合束光，可以广泛用于超分辨显微成像和高精度激光直写光刻等系统中。
[9] 成果名称：基于差动共焦探测具有抗噪能力的高精度自动对焦方法及装置
完成人：周国尊; 匡翠方; 刘旭; 李海峰
权利人：浙江大学;之江实验室;
成果类型：发明专利
成果号：ZL202110082908.1
成果简介：本发明提出一种基于差动共焦探测具有抗噪能力的高精度自动对焦方法及装置，该方法包括：产生对焦光束，经由凹透镜和电控变焦透镜组成的透镜组，与光学系统工作光束合束；对焦光束经对焦对象中的对焦平面反射，由原光路返回，再由分束镜反射入差分共焦探测机构进行光强测量；在测量过程中，对电控变焦透镜偏置高频周期性变化信号，将差分共焦探测机构测量到的静态差分信号转换为具有抗噪性能的动态差动信号；根据差动信号变化，产生反馈调整信号，自动补偿离焦量，实现自动对焦。本发明将静态光强信号差分共焦探测转化为动态光强信号差动共焦探测。通过此方法减少了系统的随机误差，提高了系统的抗噪性能，进一步增加了对焦精度。
[10] 成果名称：一种高通量光纤点阵成像直写系统
完成人：匡翠方; 魏震; 周国尊; 刘旭; 孙琦; 张凌民; 罗昊
权利人：之江实验室;浙江大学
成果类型：发明专利申请
成果号：CN 202310136507.9
成果简介：本发明公开了一种高通量光纤点阵成像直写系统，包括：光源、光纤调制器、光纤阵、准直镜、管镜一、管镜二、直写物镜、高精度位移台、控制单元；光源、光纤阵、准直镜、管镜一、管镜二、直写物镜依次同光轴布置，光纤阵中每一根单模光纤均配有光纤调制器；准直镜的后焦面和管镜一的前焦面重合，管镜一的准直端朝向准直镜，管镜二的准直端朝向直写物镜，管镜一和管镜二的成像面重合，管镜二的前焦面和直写物镜的入瞳重合，直写物镜的焦面与高精度位移台的上表面重合；控制单元用于控制光纤调制器和高精度位移台，实现设定图案的直写。本发明的结构简单、直写效率高、能直写任意图形。
[11] 成果名称：一种基于多点阵产生和独立控制的双光子并行直写装置及方法
完成人：匡翠方; 杨顺华; 刘旭; 李海峰; 丁晨良; 温积森; 徐良
权利人：之江实验室;浙江大学
成果类型：发明专利
成果号：ZL202110046632.1
成果简介：本发明公开一种基于多点阵产生和独立控制的双光子并行直写装置及方法，主要包含三个核心元件：数字微镜阵列DMD、空间光调制器SLM和微透镜阵列MLA，DMD将有效像素区域等分成N×N个单元，一个单元对应一个光斑，对DMD每个单元包含的m×m个微镜进行独立开关，实现各单元光斑强度和均匀度的独立调控；SLM将有效像素区域等分成N×N个单元，并与入射的各单元光斑一一对应并独立进行相位控制；MLA用于生成焦点阵列，其微透镜数N×N决定了点阵的数量，该点阵随后经凸透镜和物镜成像到物镜焦平面上进行加工，该装置与方法具有灰度光刻的功能，能够快速加工任意形状且高均匀度的曲面结构及真三维微结构，可应用于超分辨光刻等领域。
[12] 成果名称：一种基于双步吸收效应与STED原理的超分辨光刻方法
完成人：刘锡; 匡翠方; 丁晨良; 沈小明; 杨臻垚; 汤孟博; 刘旭
权利人：之江实验室;浙江大学
成果类型：发明专利
成果号：ZL202210817874.0
成果简介：本发明公开了一种基于双步吸收效应与STED原理的超分辨光刻方法，对于含有特殊光引发剂的光刻胶，使用两束不同波长的光源照射光刻胶，第一束激光以聚焦实心斑照射到光刻胶，利用聚焦实心斑与该光刻胶发生双步吸收作用使得光刻胶聚合固化；第二束激光为聚焦空心斑，且与第一束激光的三维中心对准，使得两束光边缘重合区域的光刻胶不发生聚合固化，通过控制两束光的相对能量，从而实现亚衍射极限2D及3D结构刻写，刻写最小精度可达亚50nm。
[13] 成果名称：一种基于双色双步吸收效应的超分辨光刻方法
完成人：丁晨良; 匡翠方; 刘锡; 徐良; 杨臻垚; 孙秋媛; 沈小明
权利人：之江实验室;浙江大学
成果类型：发明专利
成果号：ZL202210717492.0
成果简介：本发明公开了一种基于双色双步吸收效应的超分辨光刻方法，该方法基于苯偶酰光引发剂基态与三重态的光谱吸收特性，利用一束材料基态吸收范围波长的激光束与另一束材料三重态吸收范围波长的激光束共同作用于材料中，通过控制两者的能量实现双色双步吸收效应，并且结合两者的相对位移控制，从而获得小于衍射极限的刻写线宽。本发明将提供一种亚百纳米精度刻写精度与快速刻写能力的超分辨纳米激光直写方法，使三维光刻直写技术具有高速、超分辨、复杂结构刻写能力的优点。
转化方式：转让
定价方式：挂牌交易
转化价格：5038.91万元（浙江大学对应的50%份额价格为2519.455万元）
关联情况：关联
公示期自2024年12月6日至2024年12月20日。如有异议，请在公示期内向光电学院/工业技术转化研究院提交异议书及有关证据。
电话：0571-87951767，邮箱：hsm@zju.edu.cn
电话：0571-88982817，邮箱：ott@zju.edu.cn
浙江大学光电科学与工程学院
2024年12月6日
