2009年光学薄膜前沿国际会议（Frontiers of Optical Coatings, FOC 2009）于2009年10月11日-15日在西安建国饭店召开。此次会议由中国光学学会光学薄膜专委会举办，浙江大学现代光学仪器国家重点实验室承办，并由同济大学、西安工业大学、德国夫琅和费应用光学与精密机械研究所和法国菲涅尔研究所协办。FOC 2009是20年来在中国举办的最高层次的光学薄膜研讨会，也是国际上该领域内规模最大、水平最高的学术会议之一。我校信息学部主任、现代光学仪器国家重点实验室主任刘旭教授出任本次大会主席，作了大会的开幕和闭幕致辞。唐晋发教授担任会议荣誉主席，并作了题为“Optical Coating Industry in China”的大会报告。
大会聚集了国际上几乎所有从事光学薄膜研究机构的学术负责人或研究骨干，来自欧洲、北美和亚洲10多个国家的220多名代表（境外约60人）参加了会议。出席大会的既有光学薄膜领域的国际资深权威，如：加拿大国家研究院George. Dobrowolski博士、美国亚利桑那大学Angus Macleod教授、因斯布鲁克大学Hans Pulker教授、瑞典工程院院士 Claes G Granqvist教授等；也有目前处于光学薄膜一线研究工作的顶级学者，如：德国夫琅和费应用光学与精密机械研究所 Norbert Kaiser教授、美国劳伦斯-利弗莫尔国家实验室Christopher J. Stolz博士、俄罗斯莫斯科大学Alexander Tikhonravov教授、美国JDSU(原OCLI)公司Markus Tilsch博士、德国汉诺威激光中心Detlav Ristau博士、法国国家科学研究中心Claude Amra博士等专家。
本次大会为期三天，共收到投稿论文110篇，其中大会报告6个、邀请报告22个、口头报告55个、张贴报告27个。报告内容涉及膜系设计、薄膜材料、沉积技术、监控、测试与表征、薄膜应力和机械性能、抗激光损伤薄膜、短波长光学薄膜、纳米尺度镀层、一维光子晶体和应用等议题，涵盖了整个光学薄膜的研究范畴。会议期间Dobrowolski博士和德国的Ralf Fellenberg博士还分别作了题为“Computers in design and manufacture of optical multilayer coatings during the past 50 years and remaining challenges”和“Optical effects on the nanoscale”的短课程讲座。
此次会议旨在将国内外光学薄膜技术领域的专家、学者和工程技术人员汇聚一堂，充分发挥学术界、工程界和产业界各自的优势，构建一个广泛交流、深入合作的平台，为中国光学薄膜的跨越式发展创造契机。会后，众多国内外与会专家纷纷发来邮件，对于成功举办本次会议表示祝贺和感谢，并希望FOC会议今后能同美国光学学会(OSA)和国际光学工程协会(SPIE)的光学薄膜主题会议一样，每三年一次继续举办下去。
浙江大学现代光学仪器国家重点实验室承担了主要的会议组织和筹备工作，展示了我校在光学薄膜方面的研究水平，增强了与国内外研究机构的交流与合作，进一步提升了我校在本领域内的国际知名度。
浙江大学光电系
2009.10.26
