原子层沉积系统

型号： TFS 200 规格： TFS 200 收费标准： 功能与用途： 该设备可在不同的基板上(平面、复杂三维、多孔基板和粉末)制备薄膜，通过自限制的化学反应（脉冲CVD），可在原子量级控制薄膜厚度，同时其具有优异的沉积共形性，因此特别适合于微/纳光子器件的制作。通过改变反应前聚体，它可沉积氧化物、氟化物等介质薄膜以及Au、Ag等金属薄膜，因而它同时适合于复杂基板上高品质光学薄膜的制备。